【共同社4月22日電】荷蘭首相斯霍夫22日考察位於日本北海道千歲市的Rapidus新工廠，該公司力爭實現下一代半導體的國產化並已在本月啟動試驗生產線。荷蘭企業向Rapidus提供生產微小半導體不可或缺的光刻設備，斯霍夫表示期待稱“兩國合作提升技術對全球有益”。
陪同的Rapidus社長小池淳義表示，“荷蘭的設備對Rapidus很重要。”該公司去年12月從荷蘭半導體製造設備巨頭ASML引入了支持量產的極紫外光（EUV）光刻設備，是日本首例。這是使用特殊紫外光刻出電路的設備，全球僅ASML一家生產。
Rapidus推進研發2納米（1納米為10億分之1米）製程的半導體生產技術，力爭2027年開始量產。（完）
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